3M氟化液HFE-7100,FC-40,FC-3283,FC-770,PF-5060,HFE-7200,EGC-1700,FC-77,HFE-71IPA,HFE-72DE等產品具有良好的化學惰性,電氣絕緣性能,熱傳導性和獨特的低表面張力,廣泛用于清洗、熱傳導、制造、測試方面的多樣化要求,可以滿足半導體及電子行業極端需求!今天是:
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十氟戊烷,HFC-4310mee,Vertrel XF,Vertrel SMT,Vertrel XP, Vertrel XM,Vertrel SFR,Vertrel SDG,Vertrel XE,Vertrel XP,Vertrel XMS PLUS,Vertrel MCA,Vertrel MCA PLUS,Vertrel X-DA,Vertrel XSi,Vertrel X-P10,Vertrel X-DF,Vertrel XH,Vertrel C-HD
HFE-7100
HFE-71IPA
HFE-71DE
HFE-72DA
HFE-7500
 
 

 
Vertrel XF(HFC-4310mee,十氟戊烷)

DuPont Vertrel XF specialty fluid is a proprietary hydrofluorocarbon fluid with zero ozone-depletion potential and a low global warming potential. Vertrel XF is ideally suited for use in vapor degreasing equipment for cleaning, rinsing, and drying, in addition to some specialty applications including use in co-solvent systems. Vertrel XF is used to replace current hydrochlorofluorocarbon (HCFC) and perfluorocarbon (PFC) fluids in most applications. Vertrel XF forms the base for most of the Vertrel product line.

產品規格︰

Vertrel XF為HFC43-10mee或2,3-二氫十氟戊烷;分子式為C5H2F10,為無色透明液體。
-純物質,具有最少的不揮發殘留物,最適用于潔凈度要求非常高的地方。(配方的組成越多,不揮發殘留物就越多。)
-硬盤驅動器
1)用于溶解或除去氟類油,如Z-dol,Krytox等;
2)用于清洗磁頭、磁頭架和各種硬盤驅動器上的指印、離子、微粒和有機硅殘跡。
漂洗 ― 漂洗烴類、醇類等清洗劑清洗過的部件,使之干燥后無痕跡。
膠片工業 ― 除去微粒、指印等。
-提取指紋的特殊配方― 目前日本和新加坡的警察使用該產品。

產品優點︰

Vertrel XF是特有的ODP值為零且GWP值很低的HFC液體,經常用于蒸汽去脂設備中的清洗、漂洗和干燥。它可在大多數應用中取代現有的HCFC和PFC液體。它比CFC-113的沸點高而表面張力低,并且具不燃性、化學穩定性、熱穩定性和低毒性,還有蒸餾的易復原性。這些獨到的物理性能使Vertrel?XF成為廣泛應用的理想產品。Vertrel?XF的溶解能力比CFC-113更強,但也可與醇類、烴類、酯類等共混形成共沸物或共混物以增強溶解能力

 
型號 化學成分 是否為共沸物 閃點 沸點 表面張力(DYNE/CM) 暴露極限
VERTREL XF 純 HFC 43-10 純物質 130F(55C) 14.1 AEL*200 8&12HR.TWA400 CELING
VERTREL XM HFC 43-10甲醇 118F(48C) 14.1 AEL*200 8&12HR.TWA401 CEILING/TLV 200 8HR. TWA STEL 250
VERTREL XE HFC 43-10乙醇 126F(52C) 14.1 AEL*200 8&12HR.TWA400 CEILING/TLV 1000 8HR.TWA
VERTREL MCA HFC 43-10反式二氯乙烯穩定劑 109F(39C) 14.1 AEL*200 8&12HR.TWA400 CEILING/TLV 200 8HR.TWA
VERTREL SMT HFC 43-10反式二氯乙烯甲醇穩定劑 99F(37C) 14.1 AEL*200 8&12HR.TWA400 CEILING/TLV 200 8HR. TWA STEL 250/TLV 200 8HR.TWA

 

 

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